米国、対中半導体製造装置規制を調整へ　AI優位性維持に向けハイエンドプロセスを制御

【ニューヨーク16日】ロイター通信が確認した米国議会案の最新版によると、中国への半導体製造装置の流入を制限する法案が修正されました。今回の修正では一部の制限が削除されましたが、オランダASML社の深紫外線（DUV）液浸露光装置に対する新たな全米規模の制限は引き続き維持されます。オランダに拠点を置くASMLは、この重要技術の主要サプライヤーであり、現時点でコメントを控えています。

「ハードウェア技術多国間協調管理法案（MATCH法案）」は、4月2日に連邦下院へ提出されました。これは、対中輸出規制の抜け穴を塞ぎ、日米蘭などの政策を整合させることを目的とした超党派の法案です。AIが国家間の勢力均衡を塗り替える可能性がある中、米国のAI分野における優位性を維持することが狙いです。

共和党のマイケル・ボームガートナー下院議員が提出した当初案は、業界から「暴走列車」と批判を浴びるほど広範囲な制限を含んでいました。これを受け、ラムリサーチや東京エレクトロンが製造する低温エッチング装置の包括的制限など、多くの項目が修正案で削除されました。下院外交委員会は22日に、本案を含む半導体や輸出管理に関連する複数の法案を採決する予定です。

修正案でも、長鑫存儲（CXMT）、長江存儲（YMTC）、中芯国際（SMIC）ら中国の主要メーカーに対し、米国技術を使用した装置を提供することを引き続き禁止しています。また、規制対象施設での装置メンテナンスに許可を義務付ける条項も残されており、外国企業からは懸念の声が上がっていますが、申請の審査基準は一部緩和されました。中国の駐米大使館は、事態を注視し自国の権益を保護していくと表明しています。