美國質疑極紫外光（EUV）設備流入中國，艾司摩爾（ASML）嚴正駁斥

荷蘭半導體設備龍頭艾司摩爾（ASML）近期面臨川普政府高度關注。美國商務部長盧特尼克（Howard Lutnick）在多次會議中向ASML高層表達疑慮，指稱該公司旗下的極紫外光曝光機（EUV）可能已違反美國出口管制規定流入中國。

根據彭博社報導，由於EUV設備是台積電生產輝達與蘋果處理器的關鍵核心，且川普政府第一任期即實施嚴格出口管制，禁止該設備輸往中國，美方的質疑引起業界高度重視。針對指控，ASML已正式反駁，並強調設備並未流入中國。

ASML說明，EUV設備體積巨大如同校車，且必須依賴原廠員工長期維護，不僅產量極為有限，且供應鏈管控嚴密，要進行未經授權的轉移在物流與實務上極度困難。目前雙方尚未達成共識，ASML需提出相關證明以釐清爭議，而美國商務部截至目前尚未對外公開任何相關證據。