榮獲「2026 半導體年度大獎」半導體製造設備部門優秀獎
Key facts
- 榮獲「2026 半導體年度大獎」半導體製造設備部門優秀獎
- 紐福萊科技 (NuFlare Technology) 的多電子束光罩曝光設備「MBM™-4000」榮獲第 32 屆「2026 半導體年度大獎」半導體製造設備部門優秀獎。該產品支援 A14 設計規則，並實現了業界頂尖的高精度性能，其技術實力備受肯定。
- Source: PR Times
- Date: 2026年6月11日
Direct answer
紐福萊科技 (NuFlare Technology) 的多電子束光罩曝光設備「MBM™-4000」榮獲第 32 屆「2026 半導體年度大獎」半導體製造設備部門優秀獎。該產品支援 A14 設計規則，並實現了業界頂尖的高精度性能，其技術實力備受肯定。
- Citation
- 榮獲「2026 半導體年度大獎」半導體製造設備部門優秀獎 (2026年6月11日), PR Times
- Source
- PR Times
- Date
- 2026年6月11日
紐福萊科技 (NuFlare Technology) 的多電子束光罩曝光設備「MBM™-4000」榮獲第 32 屆「2026 半導體年度大獎」半導體製造設備部門優秀獎。該產品支援 A14 設計規則，並實現了業界頂尖的高精度性能，其技術實力備受肯定。
📋 文章處理履歷
- 📰 發表: 2026年6月11日 00:28
- 🔍 收集: 2026年6月10日 15:36
- 🤖 AI分析完成: 2026年6月10日 15:50（收集後14分鐘）
紐福萊科技 (NFT) 近日宣佈，其多電子束光罩曝光設備「MBM™-4000」榮獲第 32 屆「2026 半導體年度大獎」半導體製造設備部門優秀獎。該獎項由《電子裝置產業新聞》（Sangyo Times）主辦，旨在表彰對最新電子產品發展做出貢獻的卓越產品。
此次獲獎的「MBM™-4000」是由 NFT 開發的半導體光罩量產用多電子束光罩曝光設備，支援 A14 設計規則。透過高速且高精度地控制 50 萬束電子束，該設備在光罩曝光方面實現了 1.1nm (3σ) 的位置精度以及 0.5nm (3σ) 的尺寸精度，並已於 2025 年正式銷售。
* A14 設計規則：對應 1.4nm 世代半導體電路圖案的設計規則。
NFT 先前曾憑藉多電子束光罩曝光設備「MBM™-2000PLUS」獲得「2023 半導體年度大獎」半導體製造設備部門大獎，這是該公司時隔三年再次獲獎。
NFT 將持續致力於透過半導體製造設備創造新價值，為半導體產業、人類社會做出貢獻。
此次獲獎的「MBM™-4000」是由 NFT 開發的半導體光罩量產用多電子束光罩曝光設備，支援 A14 設計規則。透過高速且高精度地控制 50 萬束電子束，該設備在光罩曝光方面實現了 1.1nm (3σ) 的位置精度以及 0.5nm (3σ) 的尺寸精度，並已於 2025 年正式銷售。
* A14 設計規則：對應 1.4nm 世代半導體電路圖案的設計規則。
NFT 先前曾憑藉多電子束光罩曝光設備「MBM™-2000PLUS」獲得「2023 半導體年度大獎」半導體製造設備部門大獎，這是該公司時隔三年再次獲獎。
NFT 將持續致力於透過半導體製造設備創造新價值，為半導體產業、人類社會做出貢獻。
常見問題
ニューフレアテクノロジーが今回受賞した賞は何ですか？
電子デバイス産業新聞主催の第32回「半導体・オブ・ザ・イヤー2026」半導体製造装置部門における優秀賞です。
受賞対象となった製品は何ですか？
マルチ電子ビームマスク描画装置「MBM™-4000」です。
「MBM™-4000」の特徴は何ですか？
A14デザインルールに対応し、50万本の電子ビームを高速・高精度に制御して、位置精度1.1nm（3σ）、寸法精度0.5nm（3σ）を実現しています。
ニューフレアテクノロジーの過去の受賞歴はありますか？
はい、「半導体・オブ・ザ・イヤー2023」において、マルチ電子ビームマスク描画装置「MBM™-2000PLUS」が半導体製造装置部門のグランプリを受賞しています。
「MBM™-4000」はいつから販売されていますか？
2025年から販売を開始しています。