「Photomask Japan 2026 Technical Exhibition 第32回ホトマスク技術展示会」への出展について
Key facts
- 「Photomask Japan 2026 Technical Exhibition 第32回ホトマスク技術展示会」への出展について
- ニューフレアテクノロジーが「Photomask Japan 2026」にて最新の描画・検査装置を出展。
- Source: PR Times
- Date: 2026年3月30日
Direct answer
ニューフレアテクノロジーが「Photomask Japan 2026」にて最新の描画・検査装置を出展。
- Citation
- 「Photomask Japan 2026 Technical Exhibition 第32回ホトマスク技術展示会」への出展について (2026年3月30日), PR Times
- Source
- PR Times
- Date
- 2026年3月30日
ニューフレアテクノロジーが「Photomask Japan 2026」にて最新の描画・検査装置を出展。
📋 記事の処理履歴
- 📰 発表: 2026年3月30日 20:53
- 🤖 AI分析完了: 2026年6月2日 12:56（発表から1528時間2分後）
ニューフレアテクノロジー(NFT)は、4月9,10日にパシフィコ横浜アネックスホール(神奈川県横浜市)で開催される「Photomask Japan 2026 Technical Exhibition 第32回ホトマスク技術展示会」に出展します。
本展示会は、フォトマスクおよび次世代リソグラフィーマスク技術に関する国際シンポジウム「Photomask Japan 2026」に併設開催されるものです。
今回、NFTは、A14ノードの半導体製造用マスク量産に対応したマルチ電子ビームマスク描画装置「MBM™-4000」、10/7nm～成熟ノードの半導体製造用マスクを透過反射同時検査により60分以下の高速で実現するマスク検査装置「NPI-8000シリーズ」、ならびに各製品のロードマップを紹介します。
NFTは、電子ビームマスク描画装置のベースとなる電子技術とマスク検査装置のベースとなる光学技術の両技術を持っており、今後も、技術的シナジーを発揮して最先端の技術開発に邁進していきます。
|
開催期間 |
4月9日(木)10:00～17:00、10日(金)10:00～16:00 |
|
会場 |
パシフィコ横浜Annex Hall Booth No.31 |
|
パネル展示 |
１．マルチ電子ビームマスク描画装置：MBM™-4000 |
関連サイト
Photomask Japan 2026 | Technical Exhibition (Japanese)
以上
よくある質問
「Photomask Japan 2026 Technical Exhibition」はいつ、どこで開催されますか？
2026年4月9日(木)・10日(金)に、パシフィコ横浜のアネックスホールで開催されます。
ニューフレアテクノロジーのブース番号はどこですか？
ブース番号は「31」です。
今回の展示会ではどのような製品が紹介されますか？
A14ノードのマスク量産に対応したマルチ電子ビームマスク描画装置「MBM™-4000」や、高速検査を実現するマスク検査装置「NPI-8000シリーズ」、および製品ロードマップが紹介されます。
「NPI-8000シリーズ」の主な特徴は何ですか？
10/7nmから成熟ノードまでの半導体製造用マスクを、透過反射同時検査により60分以下の高速で検査できる点が特徴です。