「Photomask Japan 2026 Technical Exhibition 第32回ホトマスク技術展示会」への出展について
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- 「Photomask Japan 2026 Technical Exhibition 第32回ホトマスク技術展示会」への出展について
- ニューフレアテクノロジーが「Photomask Japan 2026」にて最新の描画・検査装置を出展。
- Source: PR Times
- Date: 2026年3月30日
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ニューフレアテクノロジーが「Photomask Japan 2026」にて最新の描画・検査装置を出展。
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- 「Photomask Japan 2026 Technical Exhibition 第32回ホトマスク技術展示会」への出展について (2026年3月30日), PR Times
- Source
- PR Times
- Date
- 2026年3月30日
ニューフレアテクノロジーが「Photomask Japan 2026」にて最新の描画・検査装置を出展。
📋 記事の処理履歴
- 📰 発表: 2026年3月30日 20:53
- 🔍 収集: 2026年3月30日 22:56（発表から2時間2分後）
- 🤖 AI分析完了: 2026年4月15日 21:58（収集から383時間2分後）
ニューフレアテクノロジー(NFT)は、4月9,10日にパシフィコ横浜アネックスホール(神奈川県横浜市)で開催される「Photomask Japan 2026 Technical Exhibition 第32回ホトマスク技術展示会」に出展します。
本展示会は、フォトマスクおよび次世代リソグラフィーマスク技術に関する国際シンポジウム「Photomask Japan 2026」に併設開催されるものです。
今回、NFTは、A14ノードの半導体製造用マスク量産に対応したマルチ電子ビームマスク描画装置「MBM™-4000」、10/7nm～成熟ノードの半導体製造用マスクを透過反射同時検査により60分以下の高速で実現するマスク検査装置「NPI-8000シリーズ」、ならびに各製品のロードマップを紹介します。
NFTは、電子ビームマスク描画装置のベースとなる電子技術とマスク検査装置のベースとなる光学技術の両技術を持っており、今後も、技術的シナジーを発揮して最先端の技術開発に邁進していきます。
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開催期間 |
4月9日(木)10:00～17:00、10日(金)10:00～16:00 |
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会場 |
パシフィコ横浜Annex Hall Booth No.31 |
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パネル展示 |
１．マルチ電子ビームマスク描画装置：MBM™-4000 |
関連サイト
Photomask Japan 2026 | Technical Exhibition (Japanese)
以上
よくある質問
ニューフレアテクノロジーが出展する展示会の名称と開催地はどこですか？
パシフィコ横浜アネックスホールで開催される第32回ホトマスク技術展示会です。
第32回ホトマスク技術展示会が開催される具体的な日時とブース番号は何番ですか？
4月9日10時から17時、10日10時から16時で、ブース番号は31番です。
今回の展示会でニューフレアテクノロジーが紹介する主な出展内容は何ですか？
「MBM™-4000」や「NPI-8000シリーズ」などの装置と製品ロードマップです。
展示されるマルチ電子ビームマスク描画装置「MBM™-4000」はどのような特徴がありますか？
A14ノードの半導体製造用マスク量産に対応したマルチ電子ビームマスク描画装置です。
マスク検査装置「NPI-8000シリーズ」はどのような性能を高速で実現しますか？
透過反射同時検査を行うことで、10/7nmから成熟ノード向けマスクの検査を60分以下で実現します。