「Photomask Japan 2026 Technical Exhibition 第32回ホトマスク技術展示会」への出展について
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- 「Photomask Japan 2026 Technical Exhibition 第32回ホトマスク技術展示会」への出展について
- ニューフレアテクノロジーが「Photomask Japan 2026」にて最新の描画・検査装置を出展。
- Source: PR Times
- Date: 2026年3月30日
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ニューフレアテクノロジーが「Photomask Japan 2026」にて最新の描画・検査装置を出展。
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- 「Photomask Japan 2026 Technical Exhibition 第32回ホトマスク技術展示会」への出展について (2026年3月30日), PR Times
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- PR Times
- Date
- 2026年3月30日
ニューフレアテクノロジーが「Photomask Japan 2026」にて最新の描画・検査装置を出展。
📋 記事の処理履歴
- 📰 発表: 2026年3月30日 20:53
- 🔍 収集: 2026年3月30日 22:56（発表から2時間2分後）
- 🤖 AI分析完了: 2026年4月15日 21:58（収集から383時間2分後）
ニューフレアテクノロジー(NFT)は、4月9,10日にパシフィコ横浜アネックスホール(神奈川県横浜市)で開催される「Photomask Japan 2026 Technical Exhibition 第32回ホトマスク技術展示会」に出展します。
本展示会は、フォトマスクおよび次世代リソグラフィーマスク技術に関する国際シンポジウム「Photomask Japan 2026」に併設開催されるものです。
今回、NFTは、A14ノードの半導体製造用マスク量産に対応したマルチ電子ビームマスク描画装置「MBM™-4000」、10/7nm～成熟ノードの半導体製造用マスクを透過反射同時検査により60分以下の高速で実現するマスク検査装置「NPI-8000シリーズ」、ならびに各製品のロードマップを紹介します。
NFTは、電子ビームマスク描画装置のベースとなる電子技術とマスク検査装置のベースとなる光学技術の両技術を持っており、今後も、技術的シナジーを発揮して最先端の技術開発に邁進していきます。
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開催期間 |
4月9日(木)10:00～17:00、10日(金)10:00～16:00 |
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会場 |
パシフィコ横浜Annex Hall Booth No.31 |
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パネル展示 |
１．マルチ電子ビームマスク描画装置：MBM™-4000 |
関連サイト
Photomask Japan 2026 | Technical Exhibition (Japanese)
以上
よくある質問
What are the key facts in this article?
ニューフレアテクノロジーが「Photomask Japan 2026」にて最新の描画・検査装置を出展。
What is the direct answer?
ニューフレアテクノロジーが「Photomask Japan 2026」にて最新の描画・検査装置を出展。
What is the source and date?
PR Times: https://prtimes.jp/main/html/rd/p/000000014.000154737.html | 2026年3月30日