Entegris 與 JSR/Inpria 宣布簽署 EUV 微影技術專利交叉授權協議
半導體材料領先供應商 Entegris 與 JSR（Inpria 母公司）宣布針對次世代晶片製造用 EUV 微影技術達成非獨佔交叉授權。雙方將共享金屬氧化物光阻劑（MOR）相關專利，終止現有的專利訴訟，並將探討在光阻劑設計、前驅體開發及高純度過濾系統等領域的長期合作，以支援 AI 時代的先進半導體製程。
📋 文章處理履歷
- 📰 發表: 2026年5月27日 17:00
- 🔍 收集: 2026年5月27日 08:31
- 🤖 AI分析完成: 2026年5月27日 08:36（收集後4分鐘）
半導體產業先進材料與高純度解決方案全球領導者 Entegris 與材料創新領導者及 Inpria Corporation 母公司 JSR 株式會社今日宣布，雙方已達成一項非獨佔交叉授權協議，旨在支援次世代晶片製造所需的極紫外光（EUV）微影技術進展。
根據協議，Entegris 與 Inpria 將針對金屬氧化物光阻劑（MOR）相關專利進行交叉授權，並終止審理中的專利複審程序（IPR2025-00267）。兩家公司還將探討未來在光阻材料領域合作的可能性。此項合作預計將涵蓋光阻劑設計、前驅體合成與開發，甚至延伸至 MOR 專用的高純度過濾技術及相關供應系統，這些技術對於確保新材料在 EUV 微影大量生產中發揮穩定性能至關重要。
藉由結合 JSR 與 Inpria 在金屬氧化物光阻材料方面的全面領導地位，以及 Entegris 在 CVD 沉積用 MOR 前驅體、材料處理及高純度過濾技術方面的專業知識，此項合作將在兩家公司邁向 AI 時代擴展先進技術的過程中，進一步擴大先進材料在半導體製造中的應用。
Entegris 資深副總裁 Olivier Blachier 表示，這項協議展現了生態系統內部的創新進展，有助於客戶更有信心導入次世代微影技術。JSR 上席執行役員木村徹則指出，結合 Inpria 的創新技術與 Entegris 的精製及處理專長，將擴大這些技術在半導體材料生態系統中的適用範圍。
根據協議，Entegris 與 Inpria 將針對金屬氧化物光阻劑（MOR）相關專利進行交叉授權，並終止審理中的專利複審程序（IPR2025-00267）。兩家公司還將探討未來在光阻材料領域合作的可能性。此項合作預計將涵蓋光阻劑設計、前驅體合成與開發，甚至延伸至 MOR 專用的高純度過濾技術及相關供應系統，這些技術對於確保新材料在 EUV 微影大量生產中發揮穩定性能至關重要。
藉由結合 JSR 與 Inpria 在金屬氧化物光阻材料方面的全面領導地位，以及 Entegris 在 CVD 沉積用 MOR 前驅體、材料處理及高純度過濾技術方面的專業知識，此項合作將在兩家公司邁向 AI 時代擴展先進技術的過程中，進一步擴大先進材料在半導體製造中的應用。
Entegris 資深副總裁 Olivier Blachier 表示，這項協議展現了生態系統內部的創新進展，有助於客戶更有信心導入次世代微影技術。JSR 上席執行役員木村徹則指出，結合 Inpria 的創新技術與 Entegris 的精製及處理專長，將擴大這些技術在半導體材料生態系統中的適用範圍。
常見問題
インテグリスとJSRが合意した主な内容は何ですか？
極端紫外線（EUV）リソグラフィ技術、特にメタルオキサイドレジスト（MOR）に関連する特許の非独占的クロスライセンス契約の締結です。
この契約によって解決される法的な争いはありますか？
現在係争中であった当事者系レビュー（IPR2025-00267）が終了し、知的財産に関する懸念が解消されます。
メタルオキサイドレジスト（MOR）とは何ですか？
半導体の微細化（EUV工程）に不可欠な次世代レジスト材料です。JSR/Inpriaが材料面でリードし、インテグリスは供給や精製技術に強みを持ちます。
将来的な協業にはどのような分野が含まれますか？
レジスト設計、プリカーサーの合成、高純度ろ過技術、およびそれらを安定して供給するシステムなどが検討されています。
この合意が顧客に与えるメリットは何ですか？
先端材料の信頼性と供給体制が強化されることで、顧客は確信を持って次世代リソグラフィ技術を導入できるようになります。