Elith、言語処理学会にてスポンサー賞を選定

株式会社Elithは、言語処理学会におけるスポンサー賞「Elith賞」を、奥田 悠斗様・鶴岡 慶雅様（東京大学）の研究「ファインチューニングにおける学習データの形式情報がLLMの安全性に与える影響」に贈りました。

本研究では、学習データの形式が複雑になるほどLLMの安全性が低下することや、形式分離学習によるタスク性能とのトレードオフを明らかにしており、安全性と性能の両立が重要であることを示しています。

Elithは顧客向けLLMのファインチューニングでも安全性と性能の両立を重視しており、本研究の知見を高く評価しスポンサー賞に選定いたしました。

Elithは、安全で信頼できるAI技術の普及に向け、引き続き取り組んでまいります。

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■株式会社Elith

株式会社Elithは、クライアントと共に課題を発見し、AIによる最適な解決策を共創するテックカンパニーです。 製造業、金融業、医療業など幅広い業種に向けて、AIのソリューション提供を軸に、コンサルティングから生成AI・LLM・画像AIの開発、AI教育・アドバイザリーまで一気通貫で提供しています。

また、生成AIの社会実装において重要性が高まるAIセーフティにも注力し、生成AIの応答品質や動作をリアルタイムにチェックし、自動で改善提案まで行うAIエージェントプラットフォーム「GENFLUX（ジェンフラックス）」 を通じて、安心して活用できるAI基盤の構築を支援しています。

• 社名：株式会社Elith

• 代表者：代表取締役CEO＆CTO 井上顧基

• 本社所在地：東京都文京区本郷2-27-17 フロンティア本郷Ⅰ 6-A

• 事業内容：AIに関する研究、開発、設計、企画、教育、販売、保守、コンサルティング業務

• 会社概要 URL：https://elith.ai

■本プレスリリースに関するお問い合わせ先

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