台積電才喊貴 ASML估High NA EUV製晶片數月內見
半導體設備龍頭艾司摩爾（ASML）執行長福克於19日表示，預期幾個月內將可看到採用新一代高數值孔徑（High NA）極紫外光（EUV）機製造的首批產品問世。此番言論是在其最大客戶台積電於4月表示該設備（每台高達4億美元）過於昂貴之後。福克在比利時imec主辦的會議上強調，新設備將能降低最先進晶片的圖案化成本。
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- 📰 發表: 2026年5月19日 22:27
- 🔍 收集: 2026年5月19日 22:31（發表後4分鐘）
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中央訊息 （中央社安特衛普19日綜合外電報導）世界頂尖半導體生產設備製造商艾司摩爾（ASML）執行長福克今天說，預期幾個月內可看到使用其新一代微影設備高數值孔徑（High NA）極紫外光（EUV）機製造的首批產品問世。 路透社報導，ASML最大客戶台積電4月才表示，High NA EUV曝光機太過昂貴。這種機器每台價格最高可達4億美元（約新台幣126億6000萬元）。 不過，福克（Christophe Fouquet）今天在比利時的微電子研究中心（imec）主辦的一場會議上說，High NA EUV曝光機將降低最先進晶片的圖案化（patterning）成本，無論是邏輯晶片或記憶晶片。 他並表示：「接下來幾個月內，我們將見到首批在High NA系統上曝光（製造）的少數產品，無論是記憶體或邏輯應用。」（編譯： 張正芊 ）1150519 選擇與事實站在一起，您的每一份贊助，都是守護新聞自由的力量 下載中央社「一手新聞」APP，即時掌握最新消息 本網站之文字、圖片及影音，非經授權，不得轉載、公開播送或公開傳輸及利用。