AndTech 將於 6 月 19 日(五) 舉辦「奈米壓印微細結構形成技術與光學設備應用」網路研討會
AndTech 股份有限公司將於 2026 年 6 月 19 日舉辦聚焦於奈米壓印技術及其在光學零組件應用的網路研討會。來自芝浦機械、產總研 (AIST) 及日本板硝子的專家，將深入解析從奈米壓印基本原理到晶圓級鏡頭、玻璃奈米壓印及光電融合封裝等最新應用趨勢。
📋 文章處理履歷
- 📰 發表: 2026年5月23日 02:30
- 🔍 收集: 2026年5月22日 18:01
- 🤖 AI分析完成: 2026年5月23日 05:51（收集後11小時49分鐘）
AndTech 股份有限公司（總部：神奈川縣川崎市，代表取締役社長：陶山 正夫，以下簡稱 AndTech）將開辦「奈米壓印」與「光學零組件應用」相關課程。
本研討會將解說從奈米壓印設備與製程技術，到光電融合封裝應用的最新技術趨勢。
奈米壓印技術作為透鏡、偏光片、光控制零組件等光學微細結構形成技術備受矚目，近年來透過 Roll to Roll 技術實現大面積化，以及利用玻璃奈米壓印開發高耐用光學元件的進展也日益顯著。
本課程將以微細結構形成技術為主題，探討其在光學設備上的應用。
直播・網路研討會 概要
──────────────────
主題：奈米壓印之微細結構形成技術與光學設備應用～晶圓級鏡頭・偏光元件・玻璃奈米壓印與光電融合～
舉辦日期與時間：2026年06月19日(五) 13:00-17:35
參加費用：55,000 日圓（含稅） ※ 預計以電子形式發放資料
URL：https://andtech.co.jp/seminars/1f14d188-6c0b-67e4-92d7-064fb9a95405
網路直播形式：Zoom（報名後寄送 URL）
研討會內容架構
────────────
第1講：13:00-15:00（芝浦機械股份有限公司：小久保 先生）
「奈米壓印設備之設計與光學材料應用實例」
第2講：15:10-16:25（產業技術綜合研究所：穗苅 先生）
「使用奈米壓印之光學零組件研發」
第3講：16:35-17:35（日本板硝子股份有限公司：壹岐 先生）
「溶膠-凝膠玻璃與玻璃奈米壓印之加工技術」
本研討會可學習之知識與解決之技術難題
───────────────────────
①奈米壓印技術之基礎原理與特徵
②奈米壓印設備之設計與評估
③偏光元件與調光百葉窗之應用實例
④溶膠-凝膠玻璃與玻璃奈米壓印之加工技術
本研討會的上課形式
─────────────
本課程將使用網路會議工具「Zoom」進行即時直播。
詳細資訊將於報名後通知。
以下為完整議程項目（欲了解詳情者敬請參考）
──────────────────────────────
∽∽───────────────────────∽∽
第1部 奈米壓印設備之設計與光學材料應用實例
∽∽───────────────────────∽∽
芝浦機械股份有限公司
常務執行役員 R&D中心 中心長：
小久保 光典 先生
【演講主旨】
將介紹應用於實際設備之發表案例，例如 LED 的高亮度化、晶圓級鏡頭之製作、以及大面積 (G2 (370×470mm)) 尺寸之線柵偏光片 (Wire Grid Polarizer)。
【議程】
1. 芝浦機械股份有限公司簡介
2. 奈米壓印製程
2.1 奈米壓印製程概要與特徵
2.2 奈米壓印製程應用設備實例
2.3 奈米壓印設備架構與特徵
3. 奈米壓印設備與轉印實例介紹
3.1 直壓式奈米壓印設備 ST series
3.2 Roll to Roll 方式 UV 奈米壓印設備 RT series
4. 使用奈米壓印手法之設備應用實例介紹
4.1 LED
4.1.1 製程說明
4.1.2 使用 Roll to Roll 方式 UV 奈米壓印設備 RT series 製作薄膜模具
4.1.3 高亮度 LED 專用奈米壓印設備 ST50S-LED
4.2 WLL (Wafer Level Lens 晶圓級鏡頭)
4.2.1 製程說明
4.2.2 透過機械加工與 Step & Repeat 方式奈米壓印製作微透鏡陣列模具
4.2.3 WLL 專用奈米壓印設備 ST01S-WL
4.3 線柵偏光片（大面積轉印）
4.3.1 製程說明
4.3.2 透過噴墨光阻塗佈製作大面積（G2(370×470mm)）尺寸之 WGP（挑戰將殘膜 (RLT:Residual Layer Thickness) 目標降至 50nm 以下）
4.3.3 G2(370×470mm) 尺寸 WGP 轉印用滾輪
本研討會將解說從奈米壓印設備與製程技術，到光電融合封裝應用的最新技術趨勢。
奈米壓印技術作為透鏡、偏光片、光控制零組件等光學微細結構形成技術備受矚目，近年來透過 Roll to Roll 技術實現大面積化，以及利用玻璃奈米壓印開發高耐用光學元件的進展也日益顯著。
本課程將以微細結構形成技術為主題，探討其在光學設備上的應用。
直播・網路研討會 概要
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主題：奈米壓印之微細結構形成技術與光學設備應用～晶圓級鏡頭・偏光元件・玻璃奈米壓印與光電融合～
舉辦日期與時間：2026年06月19日(五) 13:00-17:35
參加費用：55,000 日圓（含稅） ※ 預計以電子形式發放資料
URL：https://andtech.co.jp/seminars/1f14d188-6c0b-67e4-92d7-064fb9a95405
網路直播形式：Zoom（報名後寄送 URL）
研討會內容架構
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第1講：13:00-15:00（芝浦機械股份有限公司：小久保 先生）
「奈米壓印設備之設計與光學材料應用實例」
第2講：15:10-16:25（產業技術綜合研究所：穗苅 先生）
「使用奈米壓印之光學零組件研發」
第3講：16:35-17:35（日本板硝子股份有限公司：壹岐 先生）
「溶膠-凝膠玻璃與玻璃奈米壓印之加工技術」
本研討會可學習之知識與解決之技術難題
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①奈米壓印技術之基礎原理與特徵
②奈米壓印設備之設計與評估
③偏光元件與調光百葉窗之應用實例
④溶膠-凝膠玻璃與玻璃奈米壓印之加工技術
本研討會的上課形式
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本課程將使用網路會議工具「Zoom」進行即時直播。
詳細資訊將於報名後通知。
以下為完整議程項目（欲了解詳情者敬請參考）
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第1部 奈米壓印設備之設計與光學材料應用實例
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芝浦機械股份有限公司
常務執行役員 R&D中心 中心長：
小久保 光典 先生
【演講主旨】
將介紹應用於實際設備之發表案例，例如 LED 的高亮度化、晶圓級鏡頭之製作、以及大面積 (G2 (370×470mm)) 尺寸之線柵偏光片 (Wire Grid Polarizer)。
【議程】
1. 芝浦機械股份有限公司簡介
2. 奈米壓印製程
2.1 奈米壓印製程概要與特徵
2.2 奈米壓印製程應用設備實例
2.3 奈米壓印設備架構與特徵
3. 奈米壓印設備與轉印實例介紹
3.1 直壓式奈米壓印設備 ST series
3.2 Roll to Roll 方式 UV 奈米壓印設備 RT series
4. 使用奈米壓印手法之設備應用實例介紹
4.1 LED
4.1.1 製程說明
4.1.2 使用 Roll to Roll 方式 UV 奈米壓印設備 RT series 製作薄膜模具
4.1.3 高亮度 LED 專用奈米壓印設備 ST50S-LED
4.2 WLL (Wafer Level Lens 晶圓級鏡頭)
4.2.1 製程說明
4.2.2 透過機械加工與 Step & Repeat 方式奈米壓印製作微透鏡陣列模具
4.2.3 WLL 專用奈米壓印設備 ST01S-WL
4.3 線柵偏光片（大面積轉印）
4.3.1 製程說明
4.3.2 透過噴墨光阻塗佈製作大面積（G2(370×470mm)）尺寸之 WGP（挑戰將殘膜 (RLT:Residual Layer Thickness) 目標降至 50nm 以下）
4.3.3 G2(370×470mm) 尺寸 WGP 轉印用滾輪
常見問題
株式会社AndTechのナノインプリントWEBセミナーはいつ開催されますか？
2026年6月19日(金)の13:00から17:35に開催されます。
AndTechのナノインプリントWEBセミナーの参加費はいくらですか？
参加費は55,000円（税込）です。資料は電子データで配布されます。
このセミナーはどのような形式で行われますか？
WEB会議ツール「Zoom」を使用したライブ配信セミナー形式で行われます。
セミナーではどのようなテーマが扱われますか？
ナノインプリントによる微細構造形成技術と光学デバイスへの応用をテーマとし、ウエハレベルレンズ、偏光素子、ガラスナノインプリント、光電融合に関する最新動向が解説されます。
セミナーにはどの企業の専門家が登壇しますか？
第1講に芝浦機械株式会社、第2講に産業技術総合研究所（産総研）、第3講に日本板硝子株式会社の専門家が登壇します。